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光譜儀的入射狹縫定位和描跡
發(fā)布時間：2020-08-10 08:53:47 點擊：5641
由于溫度變化及其它因素的影響，可能引起譜線漂移，為保證譜線和出射狹縫穩(wěn)定重合，應定期用描跡的方法進行調整，使所有出射狹縫調整到較理想的位置上。描跡的方法是轉動入射狹縫的手輪，描跡一條譜線，找出其峰值的位置，然后將手輪轉到該峰值的位置，使各個分析元素譜線對準各自的出射狹縫。制作工作曲線時，應該進行描跡。
光譜儀的入射狹縫定位和描跡
描跡步驟
描跡指的是校準儀器機械誤差的，校準檢測器和羅蘭圓的位置的，使其恢復到出廠設置。
在實際工作中，還要根據(jù)光譜儀的功能、分析試樣的種類、結構等情況并結合生產實際作出標準曲線，標準曲線作出后，還要對曲線線性、分析結果、控樣修正等問題進行討論，這些都是非常重要的工作。
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